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膜厚量測儀 FE-300


膜厚量測儀 FE-300

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

產品信息

特 長

薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析

高性能的低價光學薄膜量測儀

藉由絕對反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能

無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手

線性最小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光系數)

測量項目

  •  絕對反射率測量

  • 膜厚解析(10層)

  • 光學常數解析(n:折射率、k:消光系數)

產品規格

FE-300V

FE-300UV

FE-300NIR※1

對應膜厚

標準型

薄膜型

厚膜型

超厚膜型

樣品尺寸

最大8寸晶圓(厚度5mm)

膜厚范圍

100nm ~ 40μm

10nm ~ 20μm

3μm ~ 300μm

15μm ~ 1.5mm

波長范圍

450nm ~ 780nm

300nm ~ 800nm

900nm ~ 1600nm

1470nm ~ 1600nm

膜厚精度

±0.2nm以內※2

-

重復再現性(2σ)

±0.1nm以內※3

-

測量時間

0.1s ~ 10s以內

量測口徑

約φ3mm

光源

鹵素燈

UV用D2燈

鹵素燈

鹵素燈

通訊界面

USB

尺寸重量

280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg

軟體功能

標準功能

波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析

選配功能

材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析

 ※1 請于本公公司聯系聯系我們
 ※2 對比VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書所記載
 ※3 測量VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重復再現性。(擴充系數2.1)

應用范圍

半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)

測量范例

  • PET基板上的DLC膜

  •  item_0005FE-300_sub001.gif

  • Si基板上的SiNx

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